肇庆抛光机的工作原理

抛光机机械设备使用的关键是想办法获得较高的抛光速度，以便尽快去除抛光过程中损坏的层。同时，要使抛光的损伤层不伤害观察到的机制，即不容易造成假机制。前者需要应用粗糙的耐磨材料，以保证较高的抛光速度来去除受损层，但受损层也较深。后者需要应用足够精细的原料，使得抛光的损伤层较浅，但抛光速度较低。

处理这种差异的方法是将抛光分为两个阶段。粗抛光的目的是去除抛光的损坏层。在这个时期，抛光速度要高。粗抛光造成的表面损伤是其次要考虑的，但也要尽量小。二是精抛光(或最终抛光)，其目标是去除粗抛光造成的表面损伤，使抛光损伤降到足够小抛光机抛光时，试件和抛光盘的压力面应平行，均匀挤压在抛光盘上，避免试件飞出和压力过大造成新的划痕。同时，试件应匀速旋转，并沿轮盘半径方向移动，以防止抛光织物部分过快受损。在整个抛光过程中，要不断加入硅粉混合液，使抛光后的纺织品保持一定的环境湿度。

为了更好地达到粗抛光的目的，规定砂轮的转速要比较低，尽量不超过600 r/min；抛光时间要比去除划痕所需的时间长，因为变形层还是要去除的。粗抛光后，压力面光滑，但无光泽。显微镜下有对称细腻的划痕，仍需打磨去除。

抛光时可合理提高砂轮转速，抛光时间适宜，丢弃粗抛光的破损层。抛光后的压制面光亮如镜，在光学显微镜明视场角的标准下看不到划痕，但在相差光照的情况下仍能看到。

抛光机抛光质量严重影响标本的组织结构，已逐渐引起相关权威专家的重视。世界上许多国家对抛光机的特点做了大量的分析工作，许多新型、新一代的粉磨设备得到了科学的发展，正从原来的手工操作发展趋势向各种全自动、全自动抛光机转变。